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　　氟化鎂晶系具有良好的光學、力學和化學性質，是一種非常重要的光功能晶體材料，用途十分廣泛，在制備氟化鎂薄膜時也經常使用。

　　高通量氟化鎂薄膜的制備方法有許多種，如：真空蒸發、等離子輔助沉積、濺射法等。工業界使用濺射法*多，因為它能在較低的基片溫度下實現氣相生長，并能獲得大面積薄膜。但濺射方法也有其缺點：在純Ar氣氛下制備的氟化鎂薄膜中，氟鎂比不匹配，且存在較強的光吸收。經研究者們的實驗，脈沖激光沉積膜的制備方法已經出現在人們面前，它能夠很好地保持體材中F/Mg的化學配比，且具有較高的透射率和較低的折射率。

　　盡管氟化鎂薄膜的制備工藝較為繁瑣，但由于其折射率低、透明波段寬、能隙寬、熱穩定性好、機械強度高、激光損傷閾值高等優良性能，成為制備增透膜、高反膜和高損傷閾值膜的重要材料。共同來了解一下，氟化鎂薄膜在各種制備光學膜上的應用吧。

　　1.用作透鏡材料。

　　為了提高其透光率，在玻璃基體上鍍膜，以提高其透光率的實際應用中，單層增透膜中使用*多的是氟化鎂，因為它不僅具有適當的折射率，接近于單層膜的理論值，而且其質地堅硬，穩定性好。所以，它除起增透作用外，還能起到一層保護膜，能提高某些玻璃的化學穩定性。

　　2.制備Cu-MgF2納米陶瓷膜。

　　研究者利用真空蒸發的方法制備了Cu-MgF2納米金屬陶瓷膜。微觀結構分析表明，在MgF2陶瓷基體中，膜顆粒均勻分布在fcc-Cu晶粒中，其平均粒度在14~16nm左右。

　　3.制作AlxGa1-xAs/GaAs太陽電池MgF2/ZnS雙層減反射膜。

　　其基本原理是利用光波在上下表面減反射膜上、下表面上反射而產生的光程差，使兩束反射光干涉相消解，從而削弱反射，增加透射。當太陽能電池材料和入射光譜確定時，減反射效應取決于減反射膜的折射率和厚度。

　　MgF2折射率相對于ZnS有更好的折射率和更寬的透光范圍，是較常用的減光材料組合。利用這兩種特性，研究者通過實驗得出：Al0.8Ga0.2As/GaAs太陽電池對MgF2/ZnS的雙層減反射膜，能顯著減少陽光反射，增加光吸收，提高太陽電池短路電流和轉換效率。

　　4.制備MgF2-TiO2混合漸變折射率薄膜。

　　運用混合介質理論模型和TFCalc膜系設計軟件，采用雙源共蒸法，制備了MgF2-TiO2混合漸變折射率薄膜。實驗表明，該薄膜在400~800nm波段反射率僅為5.56%，其衰減特性優于層狀介質的減反膜，適合于全天候工作環境。