图片区小说区另类春色首页,怡红院av亚洲一区二区三区h,粗大浓稠硕大噗嗤噗嗤h,日本人妻の乱老师和学生

　　二氧化硅滴定法均為間接法，氟硅酸鉀容量法應用*廣，確切的說法應為氟硅酸鉀沉淀分離法。該方法的原理是將含有硅的樣品與苛性堿、碳酸鈉等共融。

　　產生可溶硅酸鹽，可溶硅酸鹽在大量氯化鉀和F-存在下定量沉淀形成氟硅酸鉀(K2SiF6)。在沸水中分分析了氟硅酸鉀(HF)，采用標準氫氧化鈉溶液滴定。對其含量進行間接測定。關鍵反應：

　　H2SiO3=+3H2F2=H2SiF6+3H2O………(3)

　　Na2SiO3=+2HCl=H2SiO3=+2NaCl………(2)

　　SiO2+2NaOH=Na2SiO3=+H2O………(1)

　　H2SiF6+2KCl=K2SiF6↓+2HCl………(4)

　　K2SiF6+3H2O=4HF+H2SiO3+2KF………(5)

　　HF+NaOH=NaF+H2O----------------(6)

　　盡管表面看來這一過程似乎是試樣溶解產生K2SiF6，但要獲得準確的測定結果，需要從K2SiF6中分離出HF—用標準氫氧化鈉溶液來計算含硅量，這一過程并不復雜，在實際應用中必須注意一些關鍵的環節，才能獲得準確的測定結果。

　　上述(1)表示含硅樣品的分解，也可用HF分解樣品。H2SiO3(3)在HCl存在下，分解樣品中的硅酸鹽轉變為H2SiO3(3)(4)H2SiO3在大量氯化鉀和F-存在下產生K2SiF6沉淀(5)K2SiF6沉淀(5)K2SiF6沉淀生成HF(6)以氫氧化鈉標準溶液HF，硅量的間接測定。